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產(chǎn)品導(dǎo)航
產(chǎn)品詳細(xì)
 
產(chǎn)品名稱: FM-CVD石英管式微波等離子體裝置/FMCVD
產(chǎn)品型號(hào): FMCVD
產(chǎn)品報(bào)價(jià):
 
   
 產(chǎn)品詳細(xì):

FM-CVD石英管式微波等離子體裝置/FMCVD

 

FM-CVD石英管式微波等離子體裝置/FMCVD

中文介紹

FM-CVD石英管式微波等離子體裝置是一種先進(jìn)的薄膜沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層以及納米技術(shù)等領(lǐng)域。該裝置利用微波能量激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子體,通過化學(xué)氣相沉積(CVD)過程在石英管內(nèi)均勻沉積高質(zhì)量薄膜材料。
其核心部件為高品質(zhì)石英管,具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性、耐高溫性能和良好的光學(xué)透過性,能夠確保等離子體反應(yīng)的穩(wěn)定進(jìn)行以及沉積過程的精確控制。微波源采用高效率、高穩(wěn)定性的設(shè)計(jì),能夠在設(shè)定頻率下穩(wěn)定輸出能量,為等離子體的產(chǎn)生和維持提供可靠保障。此外,裝置還配備精密的氣體流量控制系統(tǒng),可精確調(diào)控反應(yīng)氣體的流量和比例,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜成分、厚度和性能的精準(zhǔn)調(diào)控。
該設(shè)備操作簡便,通過智能化的控制系統(tǒng),用戶可以輕松設(shè)置工藝參數(shù),實(shí)時(shí)監(jiān)控沉積過程中的各項(xiàng)指標(biāo)。其緊湊的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不僅節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,還便于維護(hù)和升級(jí)。FM-CVD石英管式微波等離子體裝置憑借其卓越的性能和廣泛的應(yīng)用前景,為科研工作者和工業(yè)生產(chǎn)人員提供了一種高效、可靠的薄膜制備解決方案,助力材料科學(xué)與技術(shù)的創(chuàng)新發(fā)展。

English Introduction

The FM-CVD Quartz Tubular Microwave Plasma Device is an advanced thin-film deposition equipment, widely used in material science, semiconductor manufacturing, optical coatings, and nanotechnology. This device utilizes microwave energy to excite gases and generate plasma, which then deposits high-quality thin films through the chemical vapor deposition (CVD) process inside the quartz tube.
The core component of this device is a high-quality quartz tube, which boasts excellent chemical stability, high-temperature resistance, and good optical transmission properties. These characteristics ensure the stable operation of the plasma reaction and precise control of the deposition process. The microwave source is designed for high efficiency and stability, providing reliable energy output at the set frequency to sustain the plasma. Additionally, the device is equipped with a precise gas flow control system that can accurately regulate the flow and ratio of reactive gases, thereby enabling precise control over the composition, thickness, and properties of the deposited films.
This device is user-friendly, with an intelligent control system that allows users to easily set process parameters and monitor key indicators in real-time during the deposition process. Its compact structure not only saves laboratory space but also facilitates maintenance and upgrades. The FM-CVD Quartz Tubular Microwave Plasma Device, with its outstanding performance and broad application prospects, offers researchers and industrial producers an efficient and reliable thin-film fabrication solution, contributing to the innovation and development of material science and technology.
FM-CVD石英管式微波等離子體裝置
的詳細(xì)介紹FM-CVD石英管式微波等離子體裝置/FMCVD
(一)主要配置:
1、微波頻率2.45GHz;足額功率0500W(基本型)或01000W(升級(jí)型)連續(xù)可調(diào),陽極高壓、陽極電流足額顯示;
2、Φ50mm(基本型)或Φ90mm(升級(jí)型)石英管真空室,有一個(gè)觀察窗和一個(gè)診斷窗;
3、石英管采用制冷循環(huán)水冷卻,保證裝置安全運(yùn)行。
4、配有真空測量及控制閥門系統(tǒng);3路工作氣體流量控制;
 
(二)典型實(shí)驗(yàn):
1、等離子體化學(xué)氣相沉積。A(氣)+B(氣)→C(固)+D(氣)。
反應(yīng)氣體A、B被激發(fā)為等離子狀態(tài),其活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)生成所需要的固態(tài)物沉積在基片上,可廣泛用于薄膜或納米材料的合成。如金剛石薄膜、碳納米材料等。
2、等離子體表面刻蝕。A(氣)+B(固)→C(氣)。反應(yīng)氣體A被激發(fā)為等離子體狀態(tài)與固體B表面原子發(fā)生反應(yīng)生成氣態(tài)物C,可用于集成電路的刻蝕實(shí)驗(yàn)。
3、等離子體催化反應(yīng)。等離子體中具有豐富的活性成分,如紫外和可見光子、電子、離子、自由基,高反應(yīng)性的中性成分如活性原子、受激原子態(tài),從而可以引發(fā)在常規(guī)化學(xué)中不能或很難實(shí)現(xiàn)的化學(xué)反應(yīng)。
4、等離子體表面改性。A(氣)+B(固)→C(固)。反應(yīng)氣體A被激發(fā)為等離子體狀態(tài),與固體B表面發(fā)生反應(yīng),生成新的化合物,從而達(dá)到改變B物質(zhì)表面性質(zhì)的目的。廣泛用于高分子材料、金屬材料、生物醫(yī)用材料的表面改性。
 
(三)產(chǎn)品特色:
1、  微波系統(tǒng)設(shè)計(jì)嚴(yán)謹(jǐn),加工精良,運(yùn)行時(shí)微波準(zhǔn)零泄漏,確保使用者人身安全;
2、  微波功率充足,等離子效應(yīng)強(qiáng)勁,作用效果良好;陽極電壓電流足額顯示。
3、  樣品臺(tái)升降架精巧豪華,方便調(diào)諧和樣品取放;
4、  樣品臺(tái)可加熱或冷卻,有利于控制反應(yīng)過程。
5、制冷循環(huán)水系統(tǒng)踐行環(huán)保理念,避免用長流水費(fèi)水?dāng)_民。
6、循環(huán)水機(jī)可聯(lián)機(jī)使用、可獨(dú)立使用,提高了投資效益;
7、缺水時(shí)啟動(dòng)高壓或正常工作時(shí)斷水,系統(tǒng)會(huì)斷電并報(bào)警;
8、真空泵排氣口接有油霧過濾器,保護(hù)環(huán)境;
9、電控系統(tǒng)功能完善、操作靈便、指示醒目;
10、整機(jī)造型典雅大氣。
 
(四)輔助設(shè)備與耗材(主要由客戶另購):
超聲清洗機(jī)、1000×金相顯微鏡;硅片、金剛石微粉、氫氣、甲烷、甲 / 乙醇、玻璃基襯底的碳膜、模板、石英管 / 板等。
 
(五)特殊配置(客戶提出要求,本廠設(shè)計(jì)制作,費(fèi)用雙方協(xié)商):
   1、異型基片臺(tái)(樣品臺(tái))              (參考價(jià)¥220
   2、上置疹斷探針(帶透明觀察窗)      (參考價(jià)¥360
3、可加熱可測溫的基片臺(tái)——可水冷可
出接線端子的基片臺(tái)支柱——寬行程
精巧豪華升降架——下法蘭(總成)    (參考價(jià)¥6800
 4、基片臺(tái)加熱及溫度測控儀            (參考價(jià)¥1100
   5、可水冷的基片臺(tái)(帶升降架總成)    (參考價(jià)¥3600
   6、光學(xué)鏡頭(用于聯(lián)接光譜儀、光度計(jì)等) (參考價(jià)¥1500
   7、客戶提出需求的其它配置            (另議)


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